Μελέτη και χαρακτηρισμός λεπτών υμενίων νανοδιαστάσεων, με ανάπτυξη θεωρητικών μοντέλων για την επεξήγηση ηλεκτρικών και οπτικών ιδιοτήτων

Παρατζή, Θεοπίστη-Ιωάννα

dc.contributor.advisor	Ganetsos, Theodore
dc.contributor.author	Παρατζή, Θεοπίστη-Ιωάννα
dc.date.accessioned	2021-09-15T07:57:24Z
dc.date.available	2021-09-15T07:57:24Z
dc.date.issued	2021-07
dc.identifier.uri	https://polynoe.lib.uniwa.gr/xmlui/handle/11400/1177
dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.26265/polynoe-1028
dc.description.abstract	Στη παρούσα διπλωματική εργασία, γίνεται χρήση του οργάνου FR-Basic και FR-Monitor κατάλληλα σχεδιασμένα για τη μέτρηση του πάχους νανοϋλικών. Επικοινωνούν μεταξύ τους για να λάβουν επιτυχώς τη μέτρηση πάχους ενός δείγματος (wafer), το οποίο είναι χωρισμένο σε 4 περιοχές, το κάθε ένα με μία επιπλέον επίστρωση μιας χημικής ένωσης. Στην αρχή γίνεται ανάλυση των εργαλείων που χρησιμοποιούνται στις μετρήσεις του υλικού εξοπλισμού (FR-Basic) και του λογισμικού (FRMonitor) και στον τρόπο λειτουργίας τους. Έπειτα περιγράφονται τα επίπεδα του δείγματος, η χρήση του καθενός στη νανο ηλεκτρονική και ποιοί μέθοδοι θα χρησιμοποιηθούν κατά την μελέτη των μετρήσεων πάχους των δειγμάτων. Στη συνέχεια παρουσιάζονται τα αποτελέσματα μετρήσεων με σειρά: πρώτα ανάλογα τη περιοχή, ύστερα μόνο με τη μέθοδο της αντανάκλασης για το κάθε δείγμα προς ανάλυση και ταυτόχρονα παραδίδονται τα διαγράμματα κανονικής κατανομής (Gauss) για κάθε πακέτο μετρήσεων της ίδιας περιοχής, για να χαρακτηριστούν με καλύτερο τρόπο η αξιοπιστία των μετρήσεων και να μπορέσουν να συγκριθούν. Τέλος, κατασκευάζεται μία νέα καμπύλη με τη χρήση Kubelka Munk, κατάλληλη για την εύρεση της τιμής του band gap (ενεργειακού χάσματος) του κάθε δείγματος, όπου συγκρίνονται με τις τιμές των ενεργειακών χασμάτων.	el
dc.format.extent	60	el
dc.language.iso	el	el
dc.publisher	Πανεπιστήμιο Δυτικής Αττικής	el
dc.rights	Αναφορά Δημιουργού - Μη Εμπορική Χρήση - Παρόμοια Διανομή 4.0 Διεθνές	*
dc.rights	Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Διεθνές	*
dc.rights	Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Διεθνές	*
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/	*
dc.subject	Nanotechnology	el
dc.subject	Νανοτεχνολογία	el
dc.subject	Wafer	el
dc.subject	Nano	el
dc.subject	Νάνο	el
dc.subject	Υμένιο	el
dc.subject	Ηλεκτρικές ιδιότητες	el
dc.subject	Οπτικές ιδιότητες	el
dc.subject	Nano thin solid films	el
dc.title	Μελέτη και χαρακτηρισμός λεπτών υμενίων νανοδιαστάσεων, με ανάπτυξη θεωρητικών μοντέλων για την επεξήγηση ηλεκτρικών και οπτικών ιδιοτήτων	el
dc.title.alternative	Study and characterization of nano thin solid films using theoretical models in order to specify the electrical and optical properties	el
dc.type	Διπλωματική εργασία	el
dc.contributor.committee	Drosos, Christos
dc.contributor.committee	Πυρομάλης, Δημήτριος
dc.contributor.faculty	Σχολή Μηχανικών	el
dc.contributor.department	Τμήμα Μηχανικών Βιομηχανικής Σχεδίασης και Παραγωγής	el
dc.description.abstracttranslated	In the present dissertation, the FR-Basic and FR-Monitor instruments suitable for measuring the thickness of nanomaterials are used. They communicate with each other, in order to successfully obtain the measurement thickness of a sample (wafer), which in this experimental device is divided into 4 regions, each of them with an additional coating of a chemical compound. At the beginning, will be provided the analysis of the tools to be used in the measurement of hardware (FR-Basic) and software (FR-Monitor) and their operation. Then, will be described the levels of the sample, the use of each in nano electronics and what methods will be used when studying the thickness measurements of the samples. They are presented below, the results of in the following order: firstly depending on the area, then only with the reflectance method for each sample to be analyzed and at the same time, the normal distribution diagrams (Gauss) are delivered for each package of measurements of the same area, in order to characterize in a better way the reliability of the measurements and to be able to compare. Finally, a new curve is constructed using Kubelka Munk, suitable for finding the value of the band gap (energy gap) of each sample, where they are compared with the values of the energy gaps.	el

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Όνομα:: Paratzi_46172.PDF
Μέγεθος:: 3.772Mb
Τύπος:: PDF
Περιγραφή:: Διπλωματική εργασία

Προβολή/Άνοιγμα

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στις ακόλουθες συλλογές

Διπλωματικές εργασίες
Διπλωματικές εργασίες τμήματος Μηχανικών Βιομηχανικής Σχεδίασης και Παραγωγής

Εμφάνιση απλής εγγραφής

Αναφορά Δημιουργού - Μη Εμπορική Χρήση - Παρόμοια Διανομή 4.0 Διεθνές

Εκτός από όπου επισημαίνεται κάτι διαφορετικό, το τεκμήριο διανέμεται με την ακόλουθη άδεια:
Αναφορά Δημιουργού - Μη Εμπορική Χρήση - Παρόμοια Διανομή 4.0 Διεθνές